По следам IDF: в будущем году Intel освоит нормы 14 нм

На мероприятии IDF компания Intel устами старшего заслуженного исследователя Марка Бора (Mark Bohr) рассказала о текущих успехах Intel в технологии полупроводникового производства. В частности, начало выпуска продукции по 14-нанометровому техпроцессу намечено на 2013 год.

Компания Intel остается лидером в разработке и освоении новых технологических процессов. Наличие собственного производства обеспечивает компании конкурентное преимущество, поскольку разработки быстро внедряются в производство.

Как известно, Intel, наряду с разработкой традиционных процессоров, в последние годы уделяет все больше внимания однокристальным системам. При этом, начиная с 32 нм, освоение норм идет параллельно. На этапе 32 нм освоены техпроцессы P1268 для процессоров и P1269 — для однокристальных систем. Техпроцессы для выпуска процессоров и однокристальных систем, основанные на соблюдении норм 22 нм, называются P1270 и P1271, на соблюдении норм 14 нм — P1272 и P1273. Техпроцесс для CPU оптимизируется по быстродействию логических транзисторов, а для однокристальных систем — по энергопотреблению (току утечки). Кроме того, в первом случае приоритет при изготовлении соединений верхнего уровня тоже отдается быстродействию, а во втором — плотности компоновки. Наконец, в процессорах отсутствуют прецизионные пассивные компоненты (резисторы, емкости и индуктивности), а в однокристальных системах они есть.

В настоящее время 22-нанометровая продукция выпускается на пяти предприятиях Intel. Начало выпуска продукции по 14-нанометровому техпроцессу намечено на 2013 год. Господин Бор уточнил, что стоимость производства при переходе к нормам 14 нм возрастает, но это будет скомпенсировано повышением степени интеграции. Таким образом, себестоимость в расчете на один транзистор продолжит снижаться.

Ставка в освоении все более тонких технологических норм делается на иммерсионную литографию. В Intel уверены, что ее удастся использовать даже в 10-нанометровом техпроцессе. Сейчас эти разработки находятся на этапе исследований, а первые образцы 10-нанометровых чипов могут появиться в 2015 году или позже.

Другим направлением исследований является литография в жестком ультрафиолетовом диапазоне (EUV). Напомним, недавно Intel решила инвестировать значительную сумму в компанию ASML, разрабатывающую оборудование для фотолитографии.

Источник: iXBT.com

Новости партнеров: